光硅氧烷ED100系列 – 派纳斯涂层

光硅氧烷ED100系列参数


产品 优势 光敏性mJ/cm² 最大厚度 R.I.@
633nm
烤 /固化 溶剂 应用
ED100 高敏
高透明度
高硬度
20-60 3.5 um 1.48 70°C/1min
230°C/30min
IPA
PGME
照片图案化钝化
/ILD
ED130 高透明度
高硬度
低Cu扩散
60 -10 um 1.50 150°C/1min
230°C/30min
PGMEA
PGME
照片图案化钝化
/ILD
ED410N 硅烷醇型
高热稳定性
100-200 1.5 um 1.43 250°C/30min PGMEA 照片图案化钝化
ED220N 硅烷醇型
非常高热稳定性
高击穿电压
100-200 10um 1.50 250°C/30min PGMEA 用于离散或高压用途的光电图案型绝缘体

光硅氧烷应用


直接图案化,光刻胶,过度涂饰,平面化

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